此系列双温区管式炉主要用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜，*高温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的程序控温使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，采用宇电AI-518P 30段程序控温仪控温。系统推荐升温速率为≤ 20℃ /min，用K型热电偶测温，也可安装宇电AIDCS监控软件或宇电AI-3170S无纸记录仪对数据进行实时采集监控，宇电AI-526P具有超温及断偶报警功能,并对加热温度进行程序控制。如了解更详细方案可直接联系林工15359289850.厦门宇电自动化科技有限公司http://www.xmyudian.com/